在干法制粒機的實(shí)際生產(chǎn)中，經(jīng)常會(huì )遇到壓力跟蹤出現波動(dòng)的情況。一般遇到壓力跟蹤超過(guò)設定擠壓壓力的比較多，這是因為螺桿往下推送的力大于擠壓油缸推壓輥的力，兩個(gè)壓輥被送料推開(kāi)，壓輥間隙變大，所以壓力跟蹤超過(guò)設定擠壓壓力。這種情況是正常的，干法制粒機的原理就是硬擠。
但是我們發(fā)現設備在長(cháng)期帶回料反復回壓生產(chǎn)時(shí)，越做到后期，壓出的顆粒越黑，硬度過(guò)高等現象，這時(shí)就需要人工去調整參數。這是因為回料本身帶有小顆粒，其堆密度和流通性與新料不一樣，所以需要人工經(jīng)常調整參數。為了解決這個(gè)問(wèn)題，我們在設備PLC程序中加入了根據壓力控制壓輥轉速的PID補償。主要目的是為了解決長(cháng)時(shí)間生產(chǎn)加工時(shí)，因為投入的物料特性不穩定，需要經(jīng)常調整參數的問(wèn)題，讓干法制粒機自動(dòng)調整參數。
下圖是19年版程序有關(guān)PID補償的相關(guān)參數——綠框中
程序原理是根據壓力跟蹤與設定的擠壓壓力之間的偏差來(lái)控制壓輥的增速幅度，壓輥轉的快了，物料的受壓過(guò)程就短了，那么就達到自動(dòng)調整的目的。但是有時(shí)候物料含糖量高，濕度大容易粘，我們就是需要低設置壓力，高壓力跟蹤去做，比如熱敏物料、含糖高物料之類(lèi)的，如果不更改PID補償參數的話(huà)，會(huì )出現剛開(kāi)始時(shí)調整的很好，但是越走壓輥出片越軟，壓力跟蹤變低的情況，這就是PID補償參數在補償，這時(shí)我們就要修改這套程序或者直接屏蔽掉，一般更改比例增益就可以了，可以改小這個(gè)數值或者直接設0就可以屏蔽補償。
在21年程序中我們不需要在參數畫(huà)面中修改PID算法細節，只輸入需要增速的壓差和相應的增速就可以了，程序會(huì )在后臺補償計算，降低了操作難度。同時(shí)提供了3段增速，操作性更強。也加入了顯示補償速度的實(shí)際數值，更直觀(guān)。下圖是21年程序中PID補償的相關(guān)參數畫(huà)面.png)
在21年版程序中，如果想要屏蔽補償，將無(wú)補償波動(dòng)壓差設200或者很大一個(gè)數值就可以了。21年版程序壓輥轉速補償的介紹操作視頻已在優(yōu)酷網(wǎng)上新，如需要請聯(lián)系華拳售后予以授權觀(guān)看。
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2021年下半年，華拳牌干法制粒機將全系配備壓輥間距檢測功能，該功能不僅可以精準的檢測兩個(gè)壓輥之間的距離，還可以調整壓輥間距。其中調整壓輥間距的功能,因為檢測的壓輥距離是個(gè)絕對值，所以在合適的條件下是解決長(cháng)期帶回料生產(chǎn)的另一種方法。它拋開(kāi)傳統的監視壓力跟蹤，以壓輥間距為監視單位，通過(guò)調整壓輥間距來(lái)達到穩定生產(chǎn)的目的。.jpeg)
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